| листинг на бирже = {{Euronext|ASML}}<br>{{NASDAQ|ASML}}
| отрасль = Полупроводниковая промышленность
| продукция = фотолитографические системы
| оборот = {{рост}} €32,67 млрд <small>(2025)</small><ref name="reuters" />
| НИОКР = {{рост}} €3,62 млрд <small>(2025)</small><ref name="reuters" />
| операционная прибыль = {{рост}} €12,05 млрд <small>(2025)</small><ref name="reuters" />
| чистая прибыль = {{рост}} €10,21 млрд <small>(2025)</small><ref name="reuters" />
| активы = {{рост}} €55,58 млрд <small>(2025)</small><ref name="reuters" />
| собственные средства = {{рост}} €24,19 млрд <small>(2025)</small><ref name="reuters" />
| капитализация = €445 млрд <small>(08.03.2026)</small><ref name="finam" />
| число сотрудников = 43,5 тыс. <small>(2025)</small><ref name="market">{{cite web|title=ASML Holding N.V. |website=MarketScreener |url=https://www.marketscreener.com/quote/stock/ASML-HOLDING-N-V-12012067/company/ |publisher=Surperformance SAS |access-date=2026-03-08 |lang=en}}</ref>
| подразделения =
| материнская компания =
| дочерние компании =
| аудитор =
| сайт =
}}
'''ASML''' — нидерландская компания, крупнейший производитель литографического оборудования для микроэлектронной промышленности, необходимого в том числе для изготовления СБИС, микросхем памяти, флеш-памяти, микропроцессоров. Центральный офис — в Велдховене (европейский технологический регион Brainport Eindhoven), там же находятся исследовательские и производственные отделы, в местах установки оборудования действует более 60 центров обслуживания в 16 странах. Компания, изначально называвшаяся '''ASM Lithography'''<ref>{{cite web|title=About ASML: Our History|url=https://www.asml.com/en/company/about-asml/history|publisher=ASML Holding|access-date=2020-06-18|archive-date=2020-07-07|archive-url=https://web.archive.org/web/20200707222010/https://www.asml.com/en/company/about-asml/history|url-status=live}}</ref>, была основана в 1984 году как Совместное предприятие компаний {{iw|ASMI|Advanced Semiconductor Materials International (ASMI)|en|ASM International}} и [[Philips]]. Позднее у Philips осталась только небольшая часть акций ASML<ref>{{Cite web |url=http://www.asml.com/asml/show.do?ctx=33254&year=2006-present |title=ASML corporate history |access-date=2010-11-12 |archive-url=https://web.archive.org/web/20090801025958/http://www.asml.com/asml/show.do?ctx=33254&year=2006-present |archive-date=2009-08-01 |url-status=dead }}</ref>. Компания входит в верхнюю часть индекса Nasdaq-100<ref>{{Cite web|lang=en|url=https://www.nasdaq.com/market-activity/quotes/nasdaq-ndx-index|title=Quotes For NASDAQ-100 Index|website=www.nasdaq.com|access-date=2020-07-25|archive-date=2021-04-25|archive-url=https://web.archive.org/web/20210425042236/https://www.nasdaq.com/market-activity/quotes/nasdaq-ndx-index|url-status=live}}</ref> и по состоянию на 2024 год имеет рыночную капитализацию в €377 млрд<ref name="finam">{{Cite web|url=https://www.finam.ru/publications/item/asml-vpervye-obognav-lvmh-po-rynochnoy-stoimosti-20240606-1135/|title=ASML впервые обогнала LVMH по рыночной стоимости|lang=ru|author=Finam|website=www.finam.ru|date=2024-06-06|archive-url=https://web.archive.org/web/20240606084143/https://www.finam.ru/publications/item/asml-vpervye-obognav-lvmh-po-rynochnoy-stoimosti-20240606-1135/|archive-date=2024-06-06|access-date=|deadlink=no|url-status=bot: unknown}}</ref>.
== История ==
ASML — нидерландская компания, крупнейший производитель литографического оборудования для микроэлектронной промышленности, необходимого в том числе для изготовления СБИС, микросхем памяти, флеш-памяти, микропроцессоров. Центральный офис — в Велдховене (европейский технологический регион Brainport Eindhoven), там же находятся исследовательские и производственные отделы, в местах установки оборудования действует более 60 центров обслуживания в 16 странах. Компания, изначально называвшаяся ASM Lithography, была основана в 1984 году как Совместное предприятие компаний и Philips. Позднее у Philips осталась только небольшая часть акций ASML. Компания входит в верхнюю часть индекса Nasdaq-100 и по состоянию на 2024 год имеет рыночную капитализацию в €377 млрд.
Компания '''Advanced Semiconductor Materials''' («Прогрессивные полупроводниковые материалы», '''ASM''') была основана в Нидерландах в 1968 году; сначала она торговала оборудованием для производства полупроводниковых приборов, а в 1970-х года начала собственное производство такого оборудования. Для разработки и производства оборудования, осуществляющего отдельный вид обработки полупроводников, фотолитографию, — в 1984 году было создано Совместное предприятие с [[Philips]], названное '''ASM Lithography'''; в 1985 году был открыт завод в Велдховене, рядом с лабораториями Philips. В 1986 году началось партнёрство ASM Lithography с немецким производителем оптики [[Carl Zeiss]].
В 1988 году был открыт филиал на Тайване.
Финансовые трудности вынудили ASM в 1988 году продать свою долю в ASML; в 1993 года Philips также начала продавать свою долю в ASML<!-- те. стало самостоятельным? -->.
История
В 1995 году акции ASML были размещены на Амстердамской фондовой бирже и на бирже NASDAQ.
Компания Advanced Semiconductor Materials («Прогрессивные полупроводниковые материалы», ASM) была основана в Нидерландах в 1968 году; сначала она торговала оборудованием для производства полупроводниковых приборов, а в 1970-х года начала собственное производство такого оборудования. Для разработки и производства оборудования, осуществляющего отдельный вид обработки полупроводников, фотолитографию, — в 1984 году было создано Совместное предприятие с Philips, названное ASM Lithography; в 1985 году был открыт завод в Велдховене, рядом с лабораториями Philips. В 1986 году началось партнёрство ASM Lithography с немецким производителем оптики Carl Zeiss.
В феврале 1999 года с одним из конкурентов, компанией [[Applied Materials]], был начат совместный проект SCALPEL по разработке литографии электронным лучом.
В 1988 году был открыт филиал на Тайване.
В следующем месяце ASML начала участие в проекте Министерства энергетики США по разработке технологии литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV); параллельно с этим участвовала и в аналогичной европейской программе Euclides. В 2001 году ASML вышла из проекта SCALPEL как менее перспективного, чем EUV. В июне 1999 года у американской компании {{iw|MicroUnity}} было куплено подразделение по производству Фотошаблонов для фотолитографии<ref name="history">{{cite web |title=ASML Holding N.V. -- Company History |url=https://www.company-histories.com/ASML-Holding-NV-Company-History.html |publisher=International Directory of Company Histories, Vol. 50. St. James Press, 2003 |access-date=2024-01-27 |lang=en |archive-date=2024-01-27 |archive-url=https://web.archive.org/web/20240127121847/https://www.company-histories.com/ASML-Holding-NV-Company-History.html |url-status=live }}</ref><ref name="history2">{{cite web |title=History |url=https://www.asml.com/en/company/about-asml/history |publisher=ASML Holding N.V. |access-date=2024-01-27 |lang=en |archive-date=2010-07-28 |archive-url=https://web.archive.org/web/20100728054310/http://www.asml.com/asml/show.do?ctx=32894 |url-status=live }}</ref>.
В 2000 году полупроводниковая отрасль начала переход на 300-миллиметровые пластины, для обработки таких пластин ASML разработала новую серию оборудования Twinscan, позволявшую одновременно на двух пластинах выполнять две разные операции. В декабре 2000 года ASML вышла на рынок Японии, несмотря на то, что там доминировали два основных её конкурента, [[Canon]] и [[Nikon]].
В 2001 году за 1,6 млрд долларов был куплен американский производитель литографических систем Silicon Valley Group (SVG)<!-- ивики нету -->, примерно равный по размеру ASML, основным её клиентом была [[Intel]]. Из-за спада в электронной отрасли ASML закончила 2001 год с убытком более 400 млн евро и резким падением выручки с 3,1 млрд евро до 1,8 млрд евро; к концу года было уволено 2000 сотрудников, или почти четверть персонала<ref name="history" />.
Несмотря на это, в 2002 году ASML стала ведущим поставщиком устройств для фотолитографии<ref>{{cite web|url=http://www.lithoguru.com/scientist/litho_history/milestones_tools.pdf|title=Milestones in Optical Lithography Tool Suppliers|author=Chris Mack|quote=ASML (4)|date=2005|pages=12|access-date=2013-12-03|archive-date=2014-05-14|archive-url=https://web.archive.org/web/20140514024050/http://www.lithoguru.com/scientist/litho_history/milestones_tools.pdf|url-status=live}}</ref>.
По состоянию на 2007 год ASML имела долю 65 % на мировом рынке фотолитографического оборудования<ref name="pr2007-4">[http://www.asml.com/asml/show.do?ctx=5869&rid=34058 ASML Press release 2007 quarter 4] {{Wayback|url=http://www.asml.com/asml/show.do?ctx=5869&rid=34058 |date=20110707175338 }} «ASML increased global market share measured in net sales to 65 percent in 2007»</ref>.
На 2008 год установка ASML высшего класса Twinscan XT:1950 могла использоваться с техпроцессами вплоть до 38 нм<ref name="pr2008-3">{{Cite web |url=http://www.asml.com/asml/show.do?ctx=5869&rid=36557 |title=Press release 2008 quarter 3 |access-date=2010-11-12 |archive-url=https://web.archive.org/web/20110707175607/http://www.asml.com/asml/show.do?ctx=5869&rid=36557 |archive-date=2011-07-07 |url-status=dead }}</ref> со скоростью до 131 пластины в час. В установке активно используется Иммерсионная литография с водяной прослойкой и аргон-фторидный ({{lang-en2|argon-fluoride}}, ArF) Эксимерный лазер с длиной волны 193 нм. На тот же момент литографическая установка в среднем стоила €22 млн<ref name="pr2008-3"/>.
Финансовые трудности вынудили ASM в 1988 году продать свою долю в ASML; в 1993 года Philips также начала продавать свою долю в ASML.
В 1995 году акции ASML были размещены на Амстердамской фондовой бирже и на бирже NASDAQ.
В феврале 1999 года с одним из конкурентов, компанией Applied Materials, был начат совместный проект SCALPEL по разработке литографии электронным лучом.
В следующем месяце ASML начала участие в проекте Министерства энергетики США по разработке технологии литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV); параллельно с этим участвовала и в аналогичной европейской программе Euclides. В 2001 году ASML вышла из проекта SCALPEL как менее перспективного, чем EUV. В июне 1999 года у американской компании было куплено подразделение по производству Фотошаблонов для фотолитографии.
В 2000 году полупроводниковая отрасль начала переход на 300-миллиметровые пластины, для обработки таких пластин ASML разработала новую серию оборудования Twinscan, позволявшую одновременно на двух пластинах выполнять две разные операции. В декабре 2000 года ASML вышла на рынок Японии, несмотря на то, что там доминировали два основных её конкурента, Canon и Nikon.
В 2001 году за 1,6 млрд долларов был куплен американский производитель литографических систем Silicon Valley Group (SVG), примерно равный по размеру ASML, основным её клиентом была Intel. Из-за спада в электронной отрасли ASML закончила 2001 год с убытком более 400 млн евро и резким падением выручки с 3,1 млрд евро до 1,8 млрд евро; к концу года было уволено 2000 сотрудников, или почти четверть персонала.
Несмотря на это, в 2002 году ASML стала ведущим поставщиком устройств для фотолитографии.
По состоянию на 2007 год ASML имела долю 65 % на мировом рынке фотолитографического оборудованияASML Press release 2007 quarter 4 «ASML increased global market share measured in net sales to 65 percent in 2007».
В 2009 году ASML разрабатывала установки с лазерами на 13,5 нм (EUVL). 22 апреля 2009 бельгийский исследовательский центр [[ИМЕК|Imec]] представил работоспособные чипы КМОП SRAM выполненные по техпроцессу 22 нм на прототипе установки ASML с EUVL<ref>[http://www2.imec.be/imec_com/imec-22nm-sram-cells-with-euv.php IMEC presents functional 22nm SRAM cells fabricated using EUV technology] {{Wayback|url=http://www2.imec.be/imec_com/imec-22nm-sram-cells-with-euv.php |date=20090425124316 }}. IMEC press release, 22 April 2009.</ref>.
На 2008 год установка ASML высшего класса Twinscan XT:1950 могла использоваться с техпроцессами вплоть до 38 нм со скоростью до 131 пластины в час. В установке активно используется Иммерсионная литография с водяной прослойкой и аргон-фторидный (, ArF) Эксимерный лазер с длиной волны 193 нм. На тот же момент литографическая установка в среднем стоила €22 млн.
Для финансирования дальнейших исследований в области технологии EUV в июле 2012 года компания продала 23 % своих акций трём крупнейшим клиентам — Intel, [[Samsung Electronics]] и [[TSMC]].
В 2009 году ASML разрабатывала установки с лазерами на 13,5 нм (EUVL). 22 апреля 2009 бельгийский исследовательский центр Imec представил работоспособные чипы КМОП SRAM выполненные по техпроцессу 22 нм на прототипе установки ASML с EUVLIMEC presents functional 22nm SRAM cells fabricated using EUV technology. IMEC press release, 22 April 2009..
В октябре того же года за 1,95 млрд евро была куплена компания Cymer, базирующийся в Сан-Диего, — производитель источников ультрафиолетового излучения для литографических систем<ref>{{cite web|title=Chip gear maker ASML buys Cymer for $2.5 billion |url=https://www.reuters.com/article/idUSBRE89G08R/ |publisher=Reuters |date=2012-10-17 |access-date=2024-01-27 |lang=en}}</ref>.
В 2016 году была куплена тайваньская компания Hermes Microvision, стоимость сделки составила 3,1 млрд долларов<ref>{{cite web|title=Chip gear maker ASML buys Cymer for $2.5 billion |url=https://www.bloomberg.com/news/articles/2016-06-15/asml-to-buy-taiwan-s-hermes-microvision-for-3-1-billion |publisher=Bloomberg |date=2016-06-15 |access-date=2024-01-27 |lang=en |archive-url=https://web.archive.org/web/20160904221503/http://www.bloomberg.com/news/articles/2016-06-15/asml-to-buy-taiwan-s-hermes-microvision-for-3-1-billion |archive-date=2016-09-04}}</ref>.
В 2020 году был куплен немецкий производитель оптики Berliner Glas<ref>{{cite web|title=Berliner Glas Group is taken over by semiconductor group ASML |url=https://www.wileyindustrynews.com/en/news/berliner-glas-group-taken-over-semiconductor-group-asml |publisher=Wiley Industry News |date=2020-07-16 |access-date=2024-01-27 |lang=en}}</ref>.
В 2021 году Комиссия по национальной безопасности США по вопросам искусственного интеллекта рекомендовала Госдепартаменту США и Министерству торговли оказать давление на союзников с целью лишения КНР доступа к DUV- и EUV-технологиям, а также сопутствующим инструментам (в 2021 году на Китай приходилось порядка 16 % продаж её систем, на сумму 2,1 млрд евро)<ref>{{cite web |title=Акции ASML упали из-за слухов о том, что США пытаются перекрыть ей поставки в Китай — акции китайских чипмейкеров наоборот подскочили |url=https://3dnews.ru/1069591/aktsii-asml-upali-v-tsene-na-fone-sluhov-o-zaprete-prodag-litograficheskogo-oborudovaniya-v-kitay-aktsii-kitayskih-chipmeykerov-podorogali-po-toy-ge-prichine/ |publisher=3D News |date=2022-07-06 |access-date=2024-01-27 |lang=en |archive-date=2024-01-27 |archive-url=https://web.archive.org/web/20240127121847/https://3dnews.ru/1069591/aktsii-asml-upali-v-tsene-na-fone-sluhov-o-zaprete-prodag-litograficheskogo-oborudovaniya-v-kitay-aktsii-kitayskih-chipmeykerov-podorogali-po-toy-ge-prichine/ |url-status=live }}</ref>. Запрет на экспорт наиболее передовых систем в КНР был введён ещё в 2019 году, а с сентября 2023 года правительство Нидерландов ввело лицензирование экспорта литографических систем<ref>[https://www.ferra.ru/news/techlife/niderlandy-nachali-meshat-asml-postavlyat-oborudovanie-v-kitai-02-01-2024.htm Нидерланды начали мешать ASML поставлять оборудование в Китай. Из-за санкций США] {{Wayback|url=https://www.ferra.ru/news/techlife/niderlandy-nachali-meshat-asml-postavlyat-oborudovanie-v-kitai-02-01-2024.htm |date=20240316141617 }} // Ferra.ru, 3 января 2024</ref><ref>{{cite web|title=Dutch semiconductor machine export restrictions to come into force in September |url=https://apnews.com/article/netherlands-china-semiconductors-chips-exports-asml-6e8cb7f8095632d4cd9d1cb364652494 |publisher=The Associated Press |date=2023-06-30 |access-date=2024-01-27 |lang=en |archive-url=https://web.archive.org/web/20230630142625/https://apnews.com/article/netherlands-china-semiconductors-chips-exports-asml-6e8cb7f8095632d4cd9d1cb364652494 |archive-date=2023-06-30}}</ref>.
Для финансирования дальнейших исследований в области технологии EUV в июле 2012 года компания продала 23 % своих акций трём крупнейшим клиентам — Intel, Samsung Electronics и TSMC.
ASML ищет возможности для развития своего бизнеса за пределами своей страны, где местное правительство по просьбе властей США запрещает ей продавать свои литографы в КНР<ref>[https://www.cnews.ru/news/top/2024-03-07_samyj_vazhnaya_v_mire_kompaniya Самая ключевая в мире компания для производства чипов взбунтовалась против гнета США. Она бежит из родной страны, чтобы без помех торговать с Китаем] {{Wayback|url=https://www.cnews.ru/news/top/2024-03-07_samyj_vazhnaya_v_mire_kompaniya |date=20240307221457 }} // CNews, 7 марта 2024</ref><ref>[https://www.ferra.ru/news/techlife/vlasti-niderlandov-popytalis-ne-dat-asml-pokinut-stranu-09-03-2024.htm Власти Нидерландов попытались не дать ASML покинуть страну] {{Wayback|url=https://www.ferra.ru/news/techlife/vlasti-niderlandov-popytalis-ne-dat-asml-pokinut-stranu-09-03-2024.htm |date=20240316141615 }} // Ferra.ru, 9 марта 2024</ref>.
В октябре того же года за 1,95 млрд евро была куплена компания Cymer, базирующийся в Сан-Диего, — производитель источников ультрафиолетового излучения для литографических систем.
В 2016 году была куплена тайваньская компания Hermes Microvision, стоимость сделки составила 3,1 млрд долларов.
В 2020 году был куплен немецкий производитель оптики Berliner Glas.
К концу 2023 года компания разработала литограф, способный работать с техпроцессом 2 нм, начав отгрузку этих систем стоимостью в 300 млн долл. за единицу в начале 2024 года<ref>[https://www.ixbt.com/news/2023/12/22/250-13-asml-2-intel.html 250 ящиков, включая 13 больших контейнеров. ASML начала поставки новейших 2-нм систем литографии компании Intel] {{Wayback|url=https://www.ixbt.com/news/2023/12/22/250-13-asml-2-intel.html |date=20240322043913 }} // [[IXBT.com]], 22 декабря 2023</ref><ref>[https://russianelectronics.ru/asml-2-nm-chipy_20_12_2023/ ASML планирует в следующем году выпустить десять устройств, способных производить 2-нм чипы] {{Wayback|url=https://russianelectronics.ru/asml-2-nm-chipy_20_12_2023/ |date=20240322043914 }} // 20.12.2023</ref>. 6 из 10 таких литографов, которые произведёт ASML за год, заказала компания Intel (соответствующие техпроцессы она называет 20A и 18A), прочие купили TSMC, Samsung, SK Hynix и Micron. После 2024 года количество ежегодно выпускаемых ASML литографических сканеров, пригодных для выпуска двухнанометровой продукции, может увеличиться до 20 штук<ref>[https://3dnews.ru/1097804/intel-okazalas-samim-aktivnim-pokupatelem-oborudovaniya-prigodnogo-dlya-raboti-s-2nm-litografiey Intel оказалась самым активным покупателем оборудования ASML для 2-нм литографии] {{Wayback|url=https://3dnews.ru/1097804/intel-okazalas-samim-aktivnim-pokupatelem-oborudovaniya-prigodnogo-dlya-raboti-s-2nm-litografiey |date=20240322043913 }} [https://3dnews.ru/1068267/tsmc-v-2024-godu-poluchit-novoe-oborudovanie-asml-i-cherez-god-viydet-na-2-nm] {{Wayback|url=https://3dnews.ru/1068267/tsmc-v-2024-godu-poluchit-novoe-oborudovanie-asml-i-cherez-god-viydet-na-2-nm |date=20240322043913 }} // 21.12.2023</ref>.
В 2021 году Комиссия по национальной безопасности США по вопросам искусственного интеллекта рекомендовала Госдепартаменту США и Министерству торговли оказать давление на союзников с целью лишения КНР доступа к DUV- и EUV-технологиям, а также сопутствующим инструментам (в 2021 году на Китай приходилось порядка 16 % продаж её систем, на сумму 2,1 млрд евро). Запрет на экспорт наиболее передовых систем в КНР был введён ещё в 2019 году, а с сентября 2023 года правительство Нидерландов ввело лицензирование экспорта литографических системНидерланды начали мешать ASML поставлять оборудование в Китай. Из-за санкций США // Ferra.ru, 3 января 2024.
ASML ищет возможности для развития своего бизнеса за пределами своей страны, где местное правительство по просьбе властей США запрещает ей продавать свои литографы в КНРСамая ключевая в мире компания для производства чипов взбунтовалась против гнета США. Она бежит из родной страны, чтобы без помех торговать с Китаем // CNews, 7 марта 2024Власти Нидерландов попытались не дать ASML покинуть страну // Ferra.ru, 9 марта 2024.
== Собственники и руководство ==
К концу 2023 года компания разработала литограф, способный работать с техпроцессом 2 нм, начав отгрузку этих систем стоимостью в 300 млн долл. за единицу в начале 2024 года250 ящиков, включая 13 больших контейнеров. ASML начала поставки новейших 2-нм систем литографии компании Intel // IXBT.com, 22 декабря 2023ASML планирует в следующем году выпустить десять устройств, способных производить 2-нм чипы // 20.12.2023. 6 из 10 таких литографов, которые произведёт ASML за год, заказала компания Intel (соответствующие техпроцессы она называет 20A и 18A), прочие купили TSMC, Samsung, SK Hynix и Micron. После 2024 года количество ежегодно выпускаемых ASML литографических сканеров, пригодных для выпуска двухнанометровой продукции, может увеличиться до 20 штукIntel оказалась самым активным покупателем оборудования ASML для 2-нм литографии // 21.12.2023.
Крупнейшими акционерами являются инвестиционные компании [[Capital Group Companies|Capital Research and Management Company]] (10,29 %), [[BlackRock]] (8,25 %), [[T. Rowe Price]] (3,43 %)<ref name="ar2022" />.
Акции компании котируются на амстердамской площадке биржи [[Euronext]] (входят в индекс AEX) и на бирже NASDAQ (входят в индекс Nasdaq-100).
; Руководство:
Собственники и руководство
* Нилс Смедегаард Андерсен (''Nils Smedegaard Andersen'') — председатель наблюдательного совета с 2023 года, также председатель наблюдательного совета компании Scan Global Logistics и член совета директоров [[Unilever]], председатель Европейского круглого стола промышленников; ранее возглавлял правление компаний Carlsberg (2001—2007) и [[Maersk]] (2007—2016)<ref>{{cite web|title=Nils Smedegaard Andersen |url=https://www.bloomberg.com/profile/person/1907748 |publisher=Reuters |access-date=2024-01-26 |lang=en}}</ref>.
Крупнейшими акционерами являются инвестиционные компании Capital Research and Management Company (10,29 %), BlackRock (8,25 %), T. Rowe Price (3,43 %).
* Кристоф Фуке (''Christophe D. Fouquet'') — президент, генеральный директор (CEO) и председатель правления с апреля 2024 года; член правления с 2018 года, в компании с 2008 года.
Акции компании котируются на амстердамской площадке биржи Euronext (входят в индекс AEX) и на бирже NASDAQ (входят в индекс Nasdaq-100).
== Деятельность ==
Руководство
Литографические установки ASML используются в производстве интегральных микросхем. В таких установках происходит процесс оптического проецирования специальных частично прозрачных шаблонов (масок) на поверхность полупроводниковой пластины, покрытую тонкой плёнкой светочувствительного материала (Фоторезиста). Для каждой пластины эта процедура повторяется несколько десятков раз. После каждого проецирования происходит обработка пластины с нанесённым фоторезистом, в процессе которой формируются электронные структуры микросхем. Оптический метод, применяемый в установках ASML, стал использоваться для производства практически всех интегральных схем. Компания производит литографическое оборудование, работающее в глубоком и экстремальном ультрафиолете. За год было продано 345 литографическое систем, из них 40 — с экстремальным ультрафиолетовым излучением (длиной волны 13,5 нм) В 2022 году оборот компании составил 21,2 млрд евро, из них 15,4 млрд пришлось на продажу оборудования, 5,7 млрд — на обслуживание и модернизацию оборудования.<ref name="ar2022">{{cite web |title=Annual Report 2022 |url=https://www.annualreports.com/HostedData/AnnualReports/PDF/NASDAQ_ASML_2022.pdf |publisher=ASML Holding N.V. |access-date=2024-01-26 |lang=en |archive-date=2024-01-26 |archive-url=https://web.archive.org/web/20240126144740/https://www.annualreports.com/HostedData/AnnualReports/PDF/NASDAQ_ASML_2022.pdf |url-status=dead }}</ref>.
Нилс Смедегаард Андерсен (Nils Smedegaard Andersen) — председатель наблюдательного совета с 2023 года, также председатель наблюдательного совета компании Scan Global Logistics и член совета директоров Unilever, председатель Европейского круглого стола промышленников; ранее возглавлял правление компаний Carlsberg (2001—2007) и Maersk (2007—2016).
Кристоф Фуке (Christophe D. Fouquet) — президент, генеральный директор (CEO) и председатель правления с апреля 2024 года; член правления с 2018 года, в компании с 2008 года.
Основными рынками сбыта в 2022 году были Тайвань (38 % выручки), Республика Корея (29 %), КНР (14 %), США (9 %), Япония (5 %) и Сингапур (2 %)<ref name="marketscreener">{{cite web |title=ASML Holding N.V. |url=https://www.marketscreener.com/quote/stock/ASML-HOLDING-N-V-12002973/company/ |publisher=MarketScreener |access-date=2024-01-26 |lang=en |archive-date=2024-01-26 |archive-url=https://web.archive.org/web/20240126144740/https://www.marketscreener.com/quote/stock/ASML-HOLDING-N-V-12002973/company/ |url-status=live }}</ref>.
Деятельность
Литографические установки ASML используются в производстве интегральных микросхем. В таких установках происходит процесс оптического проецирования специальных частично прозрачных шаблонов (масок) на поверхность полупроводниковой пластины, покрытую тонкой плёнкой светочувствительного материала (Фоторезиста). Для каждой пластины эта процедура повторяется несколько десятков раз. После каждого проецирования происходит обработка пластины с нанесённым фоторезистом, в процессе которой формируются электронные структуры микросхем. Оптический метод, применяемый в установках ASML, стал использоваться для производства практически всех интегральных схем. Компания производит литографическое оборудование, работающее в глубоком и экстремальном ультрафиолете. За год было продано 345 литографическое систем, из них 40 — с экстремальным ультрафиолетовым излучением (длиной волны 13,5 нм) В 2022 году оборот компании составил 21,2 млрд евро, из них 15,4 млрд пришлось на продажу оборудования, 5,7 млрд — на обслуживание и модернизацию оборудования..
Сборка литографических систем осуществляется в Велдховене (Нидерланды), на заводе в Сан-Диего (Калифорния) изготавливаются генераторы ультрафиолетового излучения, а в {{iw|Уилтон (Коннектикут)|Уилтоне|en|Wilton, Connecticut}} (Коннектикут) — оптические элементы и некоторые подсистемы, отдельные модули производятся на Тайване (в Тайбэе и Тайнане)<ref>{{cite web |title=Inside the insanely clean, precise world of high-tech manufacturing |url=https://www.asml.com/en/news/stories/2020/inside-high-tech-manufacturing |publisher=ASML Holding N.V. |access-date=2024-01-26 |lang=en |archive-date=2024-01-26 |archive-url=https://web.archive.org/web/20240126144740/https://www.asml.com/en/news/stories/2020/inside-high-tech-manufacturing |url-status=live }}</ref>.
Основными рынками сбыта в 2022 году были Тайвань (38 % выручки), Республика Корея (29 %), КНР (14 %), США (9 %), Япония (5 %) и Сингапур (2 %).
В списке крупнейших публичных компаний мира Forbes Global 2000 за 2023 год ASML заняла 240-е место<ref>{{cite web |title=ASML Holding |url=https://www.forbes.com/companies/asml-holding |publisher=Forbes |access-date=2024-01-28 |lang=en |archive-date=2023-11-23 |archive-url=https://web.archive.org/web/20231123084820/http://www.forbes.com/companies/asml-holding/ |url-status=live }}</ref>.
Сборка литографических систем осуществляется в Велдховене (Нидерланды), на заводе в Сан-Диего (Калифорния) изготавливаются генераторы ультрафиолетового излучения, а в (Коннектикут) — оптические элементы и некоторые подсистемы, отдельные модули производятся на Тайване (в Тайбэе и Тайнане).
== Продукция ==
В списке крупнейших публичных компаний мира Forbes Global 2000 за 2023 год ASML заняла 240-е место.
Основные серии литографов ASML<ref>{{Cite web |url=https://indico.cern.ch/event/275412/session/6/contribution/22/material/slides/0.pdf#page=40 |title=Архивированная копия |access-date=2014-09-06 |archive-date=2014-09-06 |archive-url=https://web.archive.org/web/20140906063715/https://indico.cern.ch/event/275412/session/6/contribution/22/material/slides/0.pdf#page=40 |url-status=live }}</ref>:
* 1984: PAS 2000, разрешение до 1 мкм, точность позиционирования до 250 нм
* 1989: PAS 5000, разрешение около 0,5 мкм, точность до 100 нм
* 1990-е: PAS 5500, разрешение 400—90 нм, точность до 100—12 нм
* 2000-е: семейство TWINSCAN (NX, NXT), разрешение 100—38 нм, точность до 20—2 нм
* 2010-е: экспериментальные EUV системы TWINSCAN NXE, разрешение 38—19 нм, точность лучше 3 нм
Помимо фотолитографии у компании есть разработки в области нанопечатной литографии<ref>например, патенты в США 7618250, 7692771, заявки на патенты 20070018360, 20100193994.</ref>.
Продукция
Основные серии литографов ASML:
1984: PAS 2000, разрешение до 1 мкм, точность позиционирования до 250 нм
1989: PAS 5000, разрешение около 0,5 мкм, точность до 100 нм
1990-е: PAS 5500, разрешение 400—90 нм, точность до 100—12 нм
2000-е: семейство TWINSCAN (NX, NXT), разрешение 100—38 нм, точность до 20—2 нм
2010-е: экспериментальные EUV системы TWINSCAN NXE, разрешение 38—19 нм, точность лучше 3 нм
== Российские пользователи ==
Помимо фотолитографии у компании есть разработки в области нанопечатной литографиинапример, патенты в США 7618250, 7692771, заявки на патенты 20070018360, 20100193994..
В России использование Степперов (литографов) ASML планировалось (по состоянию на 2008 год) на фабрике [[Ангстрем (компания)|Ангстрем-Т]]<ref>[http://www.electronics.ru/issue/2008/6/1 Проект «Ангстрем-Т»: первая российская smart-foundry] {{Wayback|url=http://www.electronics.ru/issue/2008/6/1 |date=20110527135831 }} — Электроника НТБ 2008: «Мы предполагаем работать на уровне 0,11-0,13 мкм. Это возможно, поскольку именно таково технологическое разрешение степперов (литографов) компании ASML.» // electronics.ru</ref>.
Также среди российских пользователей ASML — НИИСИ{{efn|С 2022 года находится под санкциями стран Евросоюза<ref>{{Cite web|url=https://eur-lex.europa.eu/legal-content/EN/TXT/PDF/?uri=OJ:L:2022:322I:FULL&from=EN|title=Official Journal of the European Union L 322I|access-date=2022-12-27|archive-date=2022-12-24|archive-url=https://web.archive.org/web/20221224115227/https://eur-lex.europa.eu/legal-content/EN/TXT/PDF/?uri=OJ:L:2022:322I:FULL&from=EN|url-status=live}}</ref>, Украины и США из-за вторжения России на Украину<ref>{{Cite web|url=https://home.treasury.gov/policy-issues/financial-sanctions/recent-actions/20220802|title=Russia-related Designations, Designations Updates, and Designation Removal; Issuance of Russia-related General Licenses; Publication of Russia-related Frequently Asked Questions|access-date=2022-12-27|archive-date=2022-12-28|archive-url=https://web.archive.org/web/20221228105809/https://home.treasury.gov/policy-issues/financial-sanctions/recent-actions/20220802|url-status=live}}</ref>}}, который использует установку проекционной пошаговой мультипликации (степпер) ASML PAS 5500/250С<ref>http://nanotech.iu4.bmstu.ru/learning_program/magistr/doc/primer.doc{{Недоступная ссылка|date=2018-05|bot=InternetArchiveBot }} "На технологической линии НИИСИ РАН применяется проекционная литографическая установка PAS5500/250C фирмы ASML "</ref><ref>{{cite web |url=http://www.nano-systems.ru/library/_publications/lithography_abstract.pdf |title=Архивированная копия |access-date=2010-11-12 |url-status=dead |archive-url=https://web.archive.org/web/20140906064431/http://www.nano-systems.ru/library/_publications/lithography_abstract.pdf |archive-date=2014-09-06 }} «с использованием установки пошаговой мультипликации ASML PAS 5500/250С»… «ТП фотолитографии на фабрике НИИСИ РАН.»</ref>.
Российские пользователи
В России использование Степперов (литографов) ASML планировалось (по состоянию на 2008 год) на фабрике Ангстрем-ТПроект «Ангстрем-Т»: первая российская smart-foundry — Электроника НТБ 2008: «Мы предполагаем работать на уровне 0,11-0,13 мкм. Это возможно, поскольку именно таково технологическое разрешение степперов (литографов) компании ASML.» // electronics.ru.
Установки ASML используются на линии по производству микросхем в Зеленограде на заводе «Микрон» (PAS 5500/750F 248 nm/0.7 — 120 пластин в час и PAS/1150C 193 nm/0.75 — 135 пластин в час).
Также среди российских пользователей ASML — НИИСИ, который использует установку проекционной пошаговой мультипликации (степпер) ASML PAS 5500/250Сhttp://nanotech.iu4.bmstu.ru/learning_program/magistr/doc/primer.doc "На технологической линии НИИСИ РАН применяется проекционная литографическая установка PAS5500/250C фирмы ASML " «с использованием установки пошаговой мультипликации ASML PAS 5500/250С»… «ТП фотолитографии на фабрике НИИСИ РАН.».
== Примечания ==
Установки ASML используются на линии по производству микросхем в Зеленограде на заводе «Микрон» (PAS 5500/750F 248 nm/0.7 — 120 пластин в час и PAS/1150C 193 nm/0.75 — 135 пластин в час).
'''Комментарии'''
{{комментарии}}
'''Источники'''
{{примечания}}
== Ссылки ==
Примечания
* {{official|www.asml.com/}}
Комментарии
* [https://www.economist.com/science-and-technology/2025/03/12/the-race-is-on-to-build-the-worlds-most-complex-machine The race is on to build the world’s most complex machine] — обзорная статья The Economist, Mar 12th 2025
[[Категория:Компании, входящие в индекс NASDAQ-100]]
[[Категория:ТНК Нидерландов]]
The race is on to build the world’s most complex machine — обзорная статья The Economist, Mar 12th 2025
Категория:Компании Нидерландов
Категория:Компании, занимающиеся нанотехнологиями
Категория:Производители полупроводникового оборудования
Категория:Компании, входящие в индекс NASDAQ-100
Категория:ТНК Нидерландов
Версия от 12:20, 8 марта 2026
ASML
ASML — нидерландская компания, крупнейший производитель литографического оборудования для микроэлектронной промышленности, необходимого в том числе для изготовления СБИС, микросхем памяти, флеш-памяти, микропроцессоров. Центральный офис — в Велдховене (европейский технологический регион Brainport Eindhoven), там же находятся исследовательские и производственные отделы, в местах установки оборудования действует более 60 центров обслуживания в 16 странах. Компания, изначально называвшаяся ASM Lithography, была основана в 1984 году как Совместное предприятие компаний и Philips. Позднее у Philips осталась только небольшая часть акций ASML. Компания входит в верхнюю часть индекса Nasdaq-100 и по состоянию на 2024 год имеет рыночную капитализацию в €377 млрд.
История
Компания Advanced Semiconductor Materials («Прогрессивные полупроводниковые материалы», ASM) была основана в Нидерландах в 1968 году; сначала она торговала оборудованием для производства полупроводниковых приборов, а в 1970-х года начала собственное производство такого оборудования. Для разработки и производства оборудования, осуществляющего отдельный вид обработки полупроводников, фотолитографию, — в 1984 году было создано Совместное предприятие с Philips, названное ASM Lithography; в 1985 году был открыт завод в Велдховене, рядом с лабораториями Philips. В 1986 году началось партнёрство ASM Lithography с немецким производителем оптики Carl Zeiss.
В 1988 году был открыт филиал на Тайване.
Финансовые трудности вынудили ASM в 1988 году продать свою долю в ASML; в 1993 года Philips также начала продавать свою долю в ASML.
В 1995 году акции ASML были размещены на Амстердамской фондовой бирже и на бирже NASDAQ.
В феврале 1999 года с одним из конкурентов, компанией Applied Materials, был начат совместный проект SCALPEL по разработке литографии электронным лучом.
В следующем месяце ASML начала участие в проекте Министерства энергетики США по разработке технологии литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV); параллельно с этим участвовала и в аналогичной европейской программе Euclides. В 2001 году ASML вышла из проекта SCALPEL как менее перспективного, чем EUV. В июне 1999 года у американской компании было куплено подразделение по производству Фотошаблонов для фотолитографии.
В 2000 году полупроводниковая отрасль начала переход на 300-миллиметровые пластины, для обработки таких пластин ASML разработала новую серию оборудования Twinscan, позволявшую одновременно на двух пластинах выполнять две разные операции. В декабре 2000 года ASML вышла на рынок Японии, несмотря на то, что там доминировали два основных её конкурента, Canon и Nikon.
В 2001 году за 1,6 млрд долларов был куплен американский производитель литографических систем Silicon Valley Group (SVG), примерно равный по размеру ASML, основным её клиентом была Intel. Из-за спада в электронной отрасли ASML закончила 2001 год с убытком более 400 млн евро и резким падением выручки с 3,1 млрд евро до 1,8 млрд евро; к концу года было уволено 2000 сотрудников, или почти четверть персонала.
Несмотря на это, в 2002 году ASML стала ведущим поставщиком устройств для фотолитографии.
По состоянию на 2007 год ASML имела долю 65 % на мировом рынке фотолитографического оборудованияASML Press release 2007 quarter 4 «ASML increased global market share measured in net sales to 65 percent in 2007».
На 2008 год установка ASML высшего класса Twinscan XT:1950 могла использоваться с техпроцессами вплоть до 38 нм со скоростью до 131 пластины в час. В установке активно используется Иммерсионная литография с водяной прослойкой и аргон-фторидный (, ArF) Эксимерный лазер с длиной волны 193 нм. На тот же момент литографическая установка в среднем стоила €22 млн.
В 2009 году ASML разрабатывала установки с лазерами на 13,5 нм (EUVL). 22 апреля 2009 бельгийский исследовательский центр Imec представил работоспособные чипы КМОП SRAM выполненные по техпроцессу 22 нм на прототипе установки ASML с EUVLIMEC presents functional 22nm SRAM cells fabricated using EUV technology. IMEC press release, 22 April 2009..
Для финансирования дальнейших исследований в области технологии EUV в июле 2012 года компания продала 23 % своих акций трём крупнейшим клиентам — Intel, Samsung Electronics и TSMC.
В октябре того же года за 1,95 млрд евро была куплена компания Cymer, базирующийся в Сан-Диего, — производитель источников ультрафиолетового излучения для литографических систем.
В 2016 году была куплена тайваньская компания Hermes Microvision, стоимость сделки составила 3,1 млрд долларов.
В 2020 году был куплен немецкий производитель оптики Berliner Glas.
В 2021 году Комиссия по национальной безопасности США по вопросам искусственного интеллекта рекомендовала Госдепартаменту США и Министерству торговли оказать давление на союзников с целью лишения КНР доступа к DUV- и EUV-технологиям, а также сопутствующим инструментам (в 2021 году на Китай приходилось порядка 16 % продаж её систем, на сумму 2,1 млрд евро). Запрет на экспорт наиболее передовых систем в КНР был введён ещё в 2019 году, а с сентября 2023 года правительство Нидерландов ввело лицензирование экспорта литографических системНидерланды начали мешать ASML поставлять оборудование в Китай. Из-за санкций США // Ferra.ru, 3 января 2024.
ASML ищет возможности для развития своего бизнеса за пределами своей страны, где местное правительство по просьбе властей США запрещает ей продавать свои литографы в КНРСамая ключевая в мире компания для производства чипов взбунтовалась против гнета США. Она бежит из родной страны, чтобы без помех торговать с Китаем // CNews, 7 марта 2024Власти Нидерландов попытались не дать ASML покинуть страну // Ferra.ru, 9 марта 2024.
К концу 2023 года компания разработала литограф, способный работать с техпроцессом 2 нм, начав отгрузку этих систем стоимостью в 300 млн долл. за единицу в начале 2024 года250 ящиков, включая 13 больших контейнеров. ASML начала поставки новейших 2-нм систем литографии компании Intel // IXBT.com, 22 декабря 2023ASML планирует в следующем году выпустить десять устройств, способных производить 2-нм чипы // 20.12.2023. 6 из 10 таких литографов, которые произведёт ASML за год, заказала компания Intel (соответствующие техпроцессы она называет 20A и 18A), прочие купили TSMC, Samsung, SK Hynix и Micron. После 2024 года количество ежегодно выпускаемых ASML литографических сканеров, пригодных для выпуска двухнанометровой продукции, может увеличиться до 20 штукIntel оказалась самым активным покупателем оборудования ASML для 2-нм литографии // 21.12.2023.
Собственники и руководство
Крупнейшими акционерами являются инвестиционные компании Capital Research and Management Company (10,29 %), BlackRock (8,25 %), T. Rowe Price (3,43 %).
Акции компании котируются на амстердамской площадке биржи Euronext (входят в индекс AEX) и на бирже NASDAQ (входят в индекс Nasdaq-100).
Руководство
Нилс Смедегаард Андерсен (Nils Smedegaard Andersen) — председатель наблюдательного совета с 2023 года, также председатель наблюдательного совета компании Scan Global Logistics и член совета директоров Unilever, председатель Европейского круглого стола промышленников; ранее возглавлял правление компаний Carlsberg (2001—2007) и Maersk (2007—2016).
Кристоф Фуке (Christophe D. Fouquet) — президент, генеральный директор (CEO) и председатель правления с апреля 2024 года; член правления с 2018 года, в компании с 2008 года.
Деятельность
Литографические установки ASML используются в производстве интегральных микросхем. В таких установках происходит процесс оптического проецирования специальных частично прозрачных шаблонов (масок) на поверхность полупроводниковой пластины, покрытую тонкой плёнкой светочувствительного материала (Фоторезиста). Для каждой пластины эта процедура повторяется несколько десятков раз. После каждого проецирования происходит обработка пластины с нанесённым фоторезистом, в процессе которой формируются электронные структуры микросхем. Оптический метод, применяемый в установках ASML, стал использоваться для производства практически всех интегральных схем. Компания производит литографическое оборудование, работающее в глубоком и экстремальном ультрафиолете. За год было продано 345 литографическое систем, из них 40 — с экстремальным ультрафиолетовым излучением (длиной волны 13,5 нм) В 2022 году оборот компании составил 21,2 млрд евро, из них 15,4 млрд пришлось на продажу оборудования, 5,7 млрд — на обслуживание и модернизацию оборудования..
Основными рынками сбыта в 2022 году были Тайвань (38 % выручки), Республика Корея (29 %), КНР (14 %), США (9 %), Япония (5 %) и Сингапур (2 %).
Сборка литографических систем осуществляется в Велдховене (Нидерланды), на заводе в Сан-Диего (Калифорния) изготавливаются генераторы ультрафиолетового излучения, а в (Коннектикут) — оптические элементы и некоторые подсистемы, отдельные модули производятся на Тайване (в Тайбэе и Тайнане).
В списке крупнейших публичных компаний мира Forbes Global 2000 за 2023 год ASML заняла 240-е место.
Продукция
Основные серии литографов ASML:
1984: PAS 2000, разрешение до 1 мкм, точность позиционирования до 250 нм
1989: PAS 5000, разрешение около 0,5 мкм, точность до 100 нм
1990-е: PAS 5500, разрешение 400—90 нм, точность до 100—12 нм
2000-е: семейство TWINSCAN (NX, NXT), разрешение 100—38 нм, точность до 20—2 нм
2010-е: экспериментальные EUV системы TWINSCAN NXE, разрешение 38—19 нм, точность лучше 3 нм
Помимо фотолитографии у компании есть разработки в области нанопечатной литографиинапример, патенты в США 7618250, 7692771, заявки на патенты 20070018360, 20100193994..
Российские пользователи
В России использование Степперов (литографов) ASML планировалось (по состоянию на 2008 год) на фабрике Ангстрем-ТПроект «Ангстрем-Т»: первая российская smart-foundry — Электроника НТБ 2008: «Мы предполагаем работать на уровне 0,11-0,13 мкм. Это возможно, поскольку именно таково технологическое разрешение степперов (литографов) компании ASML.» // electronics.ru.
Также среди российских пользователей ASML — НИИСИ, который использует установку проекционной пошаговой мультипликации (степпер) ASML PAS 5500/250Сhttp://nanotech.iu4.bmstu.ru/learning_program/magistr/doc/primer.doc "На технологической линии НИИСИ РАН применяется проекционная литографическая установка PAS5500/250C фирмы ASML " «с использованием установки пошаговой мультипликации ASML PAS 5500/250С»… «ТП фотолитографии на фабрике НИИСИ РАН.».
Установки ASML используются на линии по производству микросхем в Зеленограде на заводе «Микрон» (PAS 5500/750F 248 nm/0.7 — 120 пластин в час и PAS/1150C 193 nm/0.75 — 135 пластин в час).
Примечания
Комментарии
Источники
Ссылки
The race is on to build the world’s most complex machine — обзорная статья The Economist, Mar 12th 2025
Категория:Компании Нидерландов
Категория:Компании, занимающиеся нанотехнологиями
Категория:Производители полупроводникового оборудования
Категория:Компании, входящие в индекс NASDAQ-100
Категория:ТНК Нидерландов
