НИИПМ (ОАО)

Материал из Wikibrand
АО «НИИПМ»
АО «НИИПМ»
Тип АО
Дата основания 1961
Расположение Россия: Воронеж, Воронежская область
Ключевые фигуры Тупикин В.Ф. (генеральный директор с 2006 года) Проценко А.И. (генеральный директор с 2024 года)
Отрасль машиностроение
Продукция оборудование для фотолитографии, плазмохимии, очистка подложек, контрольно-измерительное оборудование, контрольно-испытательное оборудование, реактор получения фуллереносодержащей смеси, Светодиодные светильники, системы энергосбережения, оборудование для производства солнечных батарей, Солнечные батареи
Число сотрудников более 200 ( 2024 год)
Сайт vniipm.ru

АО «НИИПМ» — российская компания. Полное наименование — Акционерное общество «Научно-исследовательский институт полупроводникового машиностроения». Штаб-квартира компании расположена в Воронеже.

История

Компания основана в 1961 году на основе постановления совета министров СССР, с 1993 года Открытое акционерное общество «Научно-исследовательский институт полупроводникового машиностроения». В 2007 году на базе площадки НИИ создан Технопарк «Машиностроения и робототехники», который объединяет в себе более 80 малых инновационных предприятий. Управляющей компанией технопарка является АО "НИИПМ"

В 2009 году НИИ сертифицировано по международному стандарту ISO 9001:2008, военно техническому стандарту СРПП ВТ. В 2011 году НИИПМ вступил в международную ассоциацию участников космической деятельности (МАКД).

В 2012 году институт вступил в перечень предприятий-поставщиков оборудования и спецтехники для атомной промышленности.

Собственники и руководство

Председатель совета директоров компании — Веселов В. Ф.

Генеральным директором АО «Научно-исследовательский институт полупроводникового машиностроения» с 2006 года является Тупикин Вячеслав Фёдорович. Генеральным директором АО «Научно-исследовательский институт полупроводникового машиностроения» с 2024 года является Проценко Александр Иванович.

Деятельность

АО «НИИПМ» является одним из нескольких предприятий на территории РФ, которое занимается разработкой и производством специального технологического оборудования (СТО) для научных исследований и производства изделий электроники. После распада СССР предприятие переживало не самые лучшие времена, но все же выжило и развивается. За все время деятельности защищены десятки патентов и авторских прав на разработки. Сейчас в НИИ числится более 250 сотрудников, есть кандидаты и доктора наук. В НИИ первым в СССР был разработан катушечный Видеомагнитофон.

Рядом со зданием института в 2011 году была установлена станция получения «чистой электроэнергии» в которую входят ветряная электростанция, стенд с солнечными батареями и станция с электро-щитовым оборудованием и аккумуляторными батареями, со следующими техническими характеристиками:

Общие данные
Энергоотдача 12-25 КВт*Час/Сутки
Напряжение 220 В
Максимальная мощность 3,5 КВт

ОАО «НИИПМ» разрабатывает и производит автоматизированное оборудование для:

— химической обработки пластин,

— фотолитографии,

— изготовления Фотошаблонов и обработки подложек,

— измерений и испытаний полупроводниковых приборов,

— водоподготовки,

— сборочное оборудование,

— плазмохимии.

Профильные разработки

Оборудование для химической обработки пластин содержит в себя установки химической очистки, обработки в органических растворителях, ультразвуковой отмывки в моющем растворе, индивидуальной двухсторонней отмывки, установки сушки методом центрифугирования.

Оборудование для фотолитографии содержит в себя установки модульно-кластерного комплекса субмикронной литографии, нанесения Фоторезиста, нанесения фоторезиста с термообработкой, проявления фоторезиста. Оборудование для изготовления фотошаблонов и обработки подложек содержит в себя установки автоматического проведения процесса двухсторонней отмывки фотошаблонов в зоне обеспыливания, финишной отмывки и сушки поверхности шаблонов и пластин, методом «Марангони», нанесение резиста на шаблонные подложки методом центрифугирования, индивидуальной химической обработки поверхности шаблонных заготовок, травления маскирующего слоя, сушки резиста поле операции нанесения фоторезиста и задубливания резиста после операции проявления, гидромеханической и бесконтактной отмывки стеклянных подложек в производстве жидкокристаллических дисплеев, а также блоки рецикла деионизированной воды.

Оборудование для плазмохимии содержит в себя установки скоростного плазмохимического травления плёнок SiO2, ACC, поли-Si, Si3N4 через фоторезистивную маску, удаления фоторезистивных масок в технологии производства СБИС после любой операции формирования топологического ресунка, плазмохимического травления плёнок Al (силицида алюминия) через фотрезистивную маску, осаждения чистых или лигированных Фосфором диэлектрических слоев SiO2, синтеза эндоэдральных фуллеренов и нанотрубок, удаления фотрезистивных масок при производстве изделий электроники и МЭМС, после формирования топологического рисунка. Оборудование для водоподготовки и водоочистки содержит в себя установки обратного осмоса, очистки для получения особо чистой воды для производства изделий электронной техники, очистки магистральной водопроводной воды для нужд населения, умягчения питьевой воды. Контрольно-измерительное оборудования содержит в себя системы контроля СБИС при входном контроле у потребителей, измерения статических и динамических параметров микросхем, измерения параметров N-канальных полевых транзисторов.

Контрольно испытательное оборудование содержит в себя проходные камеры (измерение внешним измерителем электрических параметров микросхем в спутниках-носителях в климатической камере), установки вакуумного термоциклирования, стенды электротермотренировки интегральных микросхем различного функционального назначения с контролем состояния микросхем, автоматические сортировщики полупроводниковых приборов и интегральных схем по группам годности, полуавтоматы и автоматы вырубки, укладки, демонтажа интегральных схем в и из спутников носителей, стенды вакуумного обезгаживания для удаления смол клеящих составов после монтажа солнечных батарей. В НИИ работает достаточно большое количество специалистов, которые специализируются в области создания ПО, информационных систем, БД которые обеспечивают бесперебойную работу автоматизированных линий и установок.

Последние разработки

Роботизированные системы

Последние разработки НИИ связаны с Роскосмосом и НПП «КВАНТ». НИИПМ разработало и произвело автоматизированное оборудование для изготовления и квалификационных испытаний солнечных батарей нового поколения. Эта автоматизированная линия позволит исключить «человеческий фактор» при сборке солнечных батарей. — Стенд вакуумного обезгаживания «СВО — 150»

— Установка монтажа В данную систему входят:

— Установка вакуумного термоциклирования «УВТЦ — ПАРУС»; фото-электропреобразователей (ФЭП) в спутники-носители (СН) и проведения контроля внешнего вида (КВВ); — Сортировщик ФЭП на 2 группы; — Автоматы приварки шинки; — Установка демонтажа ФЭП из СН и укладка ФЭП в кассету; — Полуавтомат приварки Диода; — Установка монтажа изделия в СН и укладки в пенал; — Установка склейки пакета; — Установки вакуумного термопрессования; — Сортировщик ФЭП на 15 групп; — Автомат сборки стринга; — Роботизированная система КВВ панелей солнечных батарей (СБ).

Разработки для электронной промышленности

Примером является установка «УОП-150-1». Для химической обработки пластин одной из последних разработок является установки односторонней гидромеханической и мегазвуковой очистки пластин. Она предназначена для проведения процесса очистки пластин методом раздельной обработки поверхности деионизованной водой с применением мегазвуковых колебаний генератором, частота которого составляет 1,65 МГц и гидромеханическим способом обработки с подачей моющего раствора на щётку, диапазон вращения которой лежит в пределах от 150 до 300 оборотов в минуту. Для фотолитографических процессов был разработан модульно-кластерный комплекс субмикронной литографии (КФЛ). Уникальность данной установки состоит в том, что все виды фотолитографической обработки объединены единым транспортным устройством в виде робота-манипулятора. Подобные решения в области автоматизации технического процесса были в дальнейшем применены в разработке автоматизированного комплекса для сборки и испытаний солнечных батарей. Так же в области фотолитографии была разработана и произведена для заказчика установка формирования фоторезистивных плёнок «УФП-100М». Для изготовления фотошаблонов и обработки подложек спроектирована установка отмывки шаблонов «УОФ-153А». Оборудование производит гидромеханическую отмывку шаблонов с кассетной загрузкой и выгрузкой пластин. Так же конструктивно предусмотрена установка зоны обеспыливания. При обработке пластин применяется индивидуальная двухсторонняя очистка шаблонов щетками и мегазвуковая очистка на центрифуге с применением деионизованной воды. В системе применяется сканирующая мегазвуковая Форсунка.

Для индивидуальной двухсторонней отмывки и сушки поверхностей стеклянных пластин изготовлена установка «УОСП-325» которая использует деионизованную воду поступающая из отдельного блока рецикла. Здесь применяется сушка пластин с использованием метода «Марангони». Установка изготавливается в двух исполнениях: индивидуальная и кассетная. Для плазмохимических процессов спроектирован автомат скоростного плазмохимического травления «ПЛАЗМА-150». Загрузка и выгрузка опционально может быть как ручной так и автоматической. Здесь происходит травление плёнок SiO2, ACC, поли-Si, Si3N4 через фоторезистивную маску. Данная установка позволяет получать минимальный размер топологического рисунка до 0,6 мкм. Система оснащена микропроцессорным контролем параметров технологического процесса, автоматическим контролем давления, расхода газа, ВЧ-мощности. Частота используемого генератора составляет 13,56 МГц а диаметр обрабатываемых пластин — 100 и 150 мм. В 2012 году для нано-технологического центра МИЭТ был разработан полуавтомат плазмохимического удаления фоторезистивных масок в технологии производства изделий электронной техники и МЭМС, после формирования топологического рисунка на пластинах диаметром 100, 150 мм — «ПЛАЗМА-150МТ». Для нужд электронной промышленности разрабатываются системы водоподготовки. Последними разработками в данной области являются промышленные установки обратного осмоса которые так же могут применяться для применения в пищевой, фармацевтической, косметологической промышленностях а также для нужд населения. Последними разработками ОАО «НИИПМ» в области контрольно-измерительного и контрольно-испытательного оборудования являются измерители статических параметров КВК.ДИЦ.Э-16, КВК.СИЦ.Э-45, проходные камеры ПКВ-3, ПКВ-4, которые предназначены для измерения внешними измерителями электрических параметров микросхем помещённых в спутники-носители, в климатических камерах с последующей сортировкой их по группам годности.

Примечания

Ссылки

Источник — https://wikibrand.ru/index.php?title=НИИПМ_(ОАО)&oldid=66276